Guangtongxin yanjiu (Jan 2006)
制作光纤光栅用相位掩模的衍射行为研究
Abstract
利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究。研究发现,在紫外写入波长（248 nm）下,为了使零级衍射效率<5%,且±1级的衍射效率>35%,相位掩模的刻槽深度必须控制在230280 nm,占宽比必须控制在0.480.65。同时,与标量衍射理论的结果进行了分析对比。这些都为相位掩模的实际制作提供了有意义的结果。
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Guangtongxin yanjiu (Jan 2006)
利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究。研究发现,在紫外写入波长（248 nm）下,为了使零级衍射效率<5%,且±1级的衍射效率>35%,相位掩模的刻槽深度必须控制在230280 nm,占宽比必须控制在0.480.65。同时,与标量衍射理论的结果进行了分析对比。这些都为相位掩模的实际制作提供了有意义的结果。